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エルピーダメモリ株式会社（本社：東京都中央区、代表取締役社長兼CEO：坂本幸雄 以下エルピーダメモリ）と、凸版印刷株式会社（本社：東京都千代田区、代表取締役社長：足立直樹 以下凸版印刷）は、半導体用フォトマスクの製造および先端マスクの共同開発を行なうことに基本合意いたしました。これにより、半導体回路パターン幅100nmより微細な先端マスクの開発、フォトマスクデータ準備のインフラ構築について共同開発を行ないます。また凸版印刷は、ファウンドリーへの委託分も含めた、エルピーダメモリが必要とするフォトマスクを全面的に供給します。
［背景］
昨今DRAMは、これまでのコンピュータ向けに加え、デジタルコンシューマ向けなどに市場を広げており、今後ますます拡大していくことが期待されています。
パソコンやデジタルコンシューマをはじめ電子機器の開発期間が短縮される中、半導体メーカーにも、先端技術開発のスピードアップが求められています。また、開発競争も激化しており、開発パートナーやリソースの確保が必要となっています。
一方、フォトマスクは、最先端半導体開発・製造の基幹技術として重要性が高まっており、フォトマスク製造に関する技術開発はもちろん、設計やデータ準備の重要度が増しています。
また、最先端技術の開発には、半導体メーカー、フォトマスクメーカーの協力が不可欠となっており、これまで以上に関係の強化が進んできています。
このような背景より、エルピーダメモリと凸版印刷の両社が連携することで、半導体業界における競争力を高め、他社に先駆けて先端品を供給する体制を構築します。 ［基本合意の概要］
- 100nmより微細な先端マスクの共同開発を行う。
- フォトマスクデータ準備のインフラ構築に関する共同開発を行う。
- エルピーダメモリが必要とするフォトマスクを凸版に発注する。
［狙い］
＜エルピーダメモリ＞
- フォトマスクの専業メーカーと共同開発を行なう事により、開発のスピードアップを図る。また、フォトマスクの安定供給を受けられる。
- 共同開発により、開発コストを削減する。
＜凸版印刷＞
- 最先端技術を有し、ハイエンド向けメモリの開発を行なうエルピーダメモリとの共同開発により、先端メモリ向けマスク技術の向上を図る。
- エルピーダメモリが製品に使用するフォトマスクを全面的に供給する。
以 上 |
