エルピーダとキマンダ、戦略的技術開発提携で正式契約

エルピーダメモリ株式会社（以下、エルピーダ）と Qimonda AG （以下、キマンダ）は、本日、DRAMの共同開発に関する戦略的技術提携について、正式契約に至りました。この提携は、DRAM業界における両社の技術的な優位性を加速し、さらに進展させるものとなります。

キマンダの革新的な埋め込み型ワード線技術のノウハウとエルピーダの先端スタックキャパシタ技術をベースに、両社はテクノロジープラットフォームと設計ルールの共同開発を行います。具体的には、両社で開発した先進的な4F²セルを適用した40nm世代のプロセスを2010年までに市場投入し、30nm世代への展開も目指します。エンジニアの相互派遣も含めた開発活動は、広島とドレスデンにある両社の開発拠点で行います。また、両社は今後TSV（貫通電極）技術および次世代メモリ分野での共同開発を検討すると共に、合弁生産の可能性についても協議いたします。

両社は、製品や技術の開発において、設計の完全な自由度を確保するため、IPに関する広範なクロスライセンスも締結いたしました。

キマンダの社長兼CEO、キンワー・ローのコメント
「エルピーダとの協議を始めてから、キマンダとエルピーダは技術革新についての共通の理解を基に、素晴らしい関係を築くことができました。結果として非常に短期間で正式契約の締結に至ることができました。今回のエルピーダとの技術提携は、当社の事業戦略において、極めて重要なマイルストーンとなりました。キマンダは、広範なDRAM製品の世界的なサプライヤーとなり、画期的な埋め込み型ワード線技術も確立しました。そして今回、多様化する非PC ビジネスモデルをサポートするため、新たな協力関係の再構築を始めました。」

エルピーダの社長兼CEO、坂本幸雄のコメント
「短期間のうちにキマンダとの正式契約に至ったことは、今後の両社の関係強化に弾みをつけることになると思います。エルピーダとキマンダ、両社の先端技術を融合し、最先端製品の開発を早期に進めることでDRAM No.1企業としての早期の地位確立を目指します。」

エルピーダについて
エルピーダメモリ株式会社（TSE：6665）は、DRAM（ダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ）のリーディングカンパニーです。世界トップレベルの技術力により、開発・設計・製造・販売活動を積極的に展開しています。最先端の製造技術を誇る生産拠点、広島工場、台湾を拠点とする合弁企業レックスチップ、後工程として秋田エルピーダメモリ株式会社を有しています。エルピーダは、大容量、高速、低消費電力、小型パッケージなどの先端製品ラインナップにより、ハイエンドサーバ、携帯電話、デジタル家電など幅広い応用分野にお応えします。
当社に関するさらに詳細な情報は、http://www.elpida.com/ja/ にてご覧いただけます。

キマンダについて
キマンダ（Qimonda AG、本社：独ミュンヘン）は、幅広いDRAM製品ポートフォリオを持つ、グローバルなメモリサプライヤです。キマンダの2007会計年度の売上高は 36.1億ユーロで、世界全体の従業員数は13,500人です。3大陸に5つの300ミリ生産拠点を有しており、6つの主要な研究開発施設をグローバルに展開しています。キマンダは、省電力技術やデザインをベースにコンピュータ、インフラストラクチャ、グラフィックス、モバイルおよびコンシューマ分野向けに幅広い製品ポートフォリオを有しています。詳細についてはwww.qimonda.jpをご参照ください。

以上

PDF（115KB）

ニュースリリースに掲載されている情報は、発表日現在の情報です。その後予告なしに変更されることがございますので、あらかじめご了承ください。